触摸显示屏plasma等离子清洗机

真空式等离子处理系统CRF-VPO-8L-S

名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-8L-S

控制系统（Control system）

PLC+触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,3kw

中频电源功率（MF Power）

600W/13.56MHz

容量（Volume）

80L（Option）

层数（Electrode of plies）

8（Option）

有效处理面积（Area）

400（L）*300（W）（Option）

气体通道（Gas）

两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2

产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。

可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。

保养维修成本低，便于客户成本控制。

高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。

应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。

讲述我国等离子清洗机是如何进步并满足清洗行业的需要的

随着时代的发展，科技在不断的进步，各行各业都有了自己的进步空间，不同的行业都有不同的应用。等离子设备相信大家都了解一下，对于等离子外加工也了解了一下，那么对于等离子清洗机，它的清洗技术的作用比较突出，下面我们就来看看吧。

等离子清洗机原理就是利用等离子的特性使用大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清(除)了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。要外加能量给电子，简单的方法就是用平行电极板加一直流电压，电子在电极中，会被带正电的电极所吸引而加速，在加速的过程中电子可以累积能量，当电子的能量达到某一程度时，就有能力来解离中性气体原子，能产生高密度等离子体的方法有很多种。

等离子清洗机与工业清洗及各种工业活动密切相关，有的是，产品生产工艺的一个组成部分。清洗不提供的产品。而是许多工业生产过程中的一个局部工序。工艺或辅助活动。在一些传统工业中。清洗已经被人们看作是一个简单的过程或常识。往往不被人们重视。但清洗的好坏却决定产品的性能和质量。特别是在当今的高科技产业中，清洗技术的作用尤为突出。

近年来，一些新型的清洗技术和设备逐步得到开发和应用，如真空清洗，等离子清洗、紫外/臭氢清洗，激光清洗。干冰清洗等崭露头角，展示了良好的效(果)和应用前景。同时，伴随着工业总体水平的提高。免清洗技术也开始得到推广，特别是在电子工业和精密机械加工领域，洁净包装技术可以使元件。 精密工业清洗所需要的清洗设备，清洗剂和清洗技术。目前已经基本可以立足国内。专(业)清洗设备生产单位已经多次在国(际)公开招标中中标，并批量生产单机自动和成套的大型清洗设备，经过国内和国(际)专家验收，完(全)可以满足我国清洗行业的需要。