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基本参数
产品特性 | 氧化锌锡靶 | 工件材质 | 陶瓷靶材 |
类型 | 真空镀 | 货号 | UVTM |
打样周期 | 8-15天 | 加工周期 | 8-15天 |
年最大加工能力 | 9999 | 年剩余加工能力 | 9999 |
品牌 | UVTM |
铝靶、铜靶用于导电层薄膜。在半导体芯片制造的金属化工艺过程中,氧化钨薄膜是一种被广泛研究的功能材料。芯片行业拥有一条超长的产业链。其整体可分为设计、制造、封装、测试四大环节。除了在设计领域,华为海思拥有一定的突破能力,其他三个环节,尤其是在制造环节,国内厂商的能力仍有极大的提升空间。
尽管全世界各大厂生产的材料几乎都能99.99%的纯度,但却唯有日本厂商的材料能将纯度达到99.999%。半导体材料主要分为晶圆制造材料和封装材料,化学品、电子气体、CMP抛光材料、以及靶材等;芯片封装材料包括封装基板(39%)、引线框架、树脂、键合丝、锡球、以及电镀液等。磷化铟靶材(InP),铅靶材(PbAs),铟靶材(InAs)。
供应pvd靶材 mo靶材 锌锡氧靶材(ZTO)
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