广州市尤特新材料有限公司
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主营产品: 磁控溅射靶材、陶瓷靶材、金属靶材、ITO靶材
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真空镀膜靶材真空镀膜实验靶材真空镀膜铬管靶

价格 480.00/件 460.00/件
起订量 ≥2 ≥20
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基本参数

产品特性 镀膜铬管靶 工件材质 镀膜铬管靶
类型 真空镀 货号 UVTM
打样周期 8-15天 加工周期 8-15天
年最大加工能力 90000 年剩余加工能力 90000
品牌 UVTM

在半导体材料行业中,国产靶材替代国外靶材已经崭露头角,呈现定点突破局面,正是需要社会资金大力投入奋力追赶之关键时刻。价格也昂贵,这方面的要求明显高于平面显示器、太阳能电池等其他应用领域。在硅片的正面和背面制造非常精细的电路,将光生电子导出电池。特定晶向的单晶硅片放入碱溶液中腐蚀,即可在硅片表面产生出许多细小的金字塔状外观。定了极其苛刻的标准,若溅射靶材的杂质含量过高。

研究结果表明,磁轭倾角的增加。近年来,型上有了较大的突破。喷涂技术在工业应用上非常广泛。喷涂法是利用高压气体(NH混合气体或空气)携带粉末颗粒经缩放管产生超音速双相流。使用氧化铌粉体和少量金属Nb,用等离子体喷涂实现了工业化制备旋转氧化铌靶材、化合物涂层。



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