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铟靶材In氧化铟靶材In2O3磁控溅射靶材

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基本参数

产地 北京 品名 靶材
适用范围 科研实验专用 用途 磁控溅射靶材
种类 靶材

科研实验专用铟靶材In氧化铟靶材In2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      氧化铟(In2O3)为白色或淡黄色无定型粉末,加热转变为红褐色;是一种新的n型透明半导体功能材料,具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性,在光电领域、气体传感器、催化剂方面得到了广泛应用。而氧化铟颗粒尺寸达纳米级别时除具有以上功能外,还具备了纳米材料的表面效应、量子尺寸效应、小尺寸效应和宏观量子隧道效应等。电阻式触摸屏中经常使用的原材料,主要用于荧光屏、玻璃、陶瓷、化学试剂等。

产品参数

中文名 氧化铟        分子式 In2O3    熔点 2000℃

分子量 277.63400  沸点 850℃        密度 7.179g/ml%

纯度 99.99%

产品介绍

       铟(In)是银白色并略带淡蓝色的金属 ,质地非常软,能用指甲刻痕,可塑性强,有延展性,可压成片,易熔金属;液态铟能浸润玻璃,并且会粘附在接触过的表面上留下黑色的痕迹。铟有微弱的放射性,天然铟有两种主要同位素,其一为In-113为稳定核素,In-115为β- 衰变。从常温到熔点之间,铟与空气中的氧作用缓慢,表面形成极薄的氧化膜(In2O3),温度更高时,与活泼非金属作用。大块金属铟不与沸水和碱溶液反应,但粉末状的铟可与水缓慢的作用,生成氢氧化铟。铟与冷的稀酸作用缓慢,易溶于浓热的无机酸和乙酸、草酸。铟能与许多金属形成合金。金属铟主要用于制造低熔合金、轴承合金、半导体、电光源等的原料。

产品参数

中文名 铟         元素符号 In            原子量 114.818

沸点 2072℃     熔点 156.6℃         密度 7.31g/cm3

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

交货周期:现货当天发,常规期货4周内

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

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